Das Gebrauchsmusterrecht und auch das Geschmacksmusterrecht sind, wie auch das Patentrecht und das Markenrecht, Teile des Gewerblichen Rechts. Rechtliche Grundlagen bilden hier das Gebrauchsmustergesetz (GebrMG) bzw. das Geschmacksmustergesetz (GeschmMG).

Das Gebrauchsmustergesetz beinhaltet den Schutz vor Nachahmung von Erfindungen. Sie müssen neu sein, auf einem erfinderischen Schritt beruhen und gewerblich anwendbar sein. Da beim Gebrauchsmuster nur formale Anforderungen überprüft werden, nicht aber Neuheit und erfinderische Schritte, ist es ein ungeprüftes Schutzrecht. Chemische Stoffe, Nahrungsmittel sowie Softwareprodukte können als Gebrauchsmuster angemeldet werden. Nicht angemeldet werden können Verfahren, zum Beispiel Herstellungsverfahren. Das Gebrauchsmusterrecht ist eine schnelle und kostengünstige Alternative zum Patentrecht. Der Schutz des Gebrauchsmusters besteht 3 Jahre, kann aber mehrmals verlängert werden, maximal allerdings auf 10 Jahre. Das Patentrecht bietet mehr Schutz als das Gebrauchsmusterrecht, wobei sich beide nicht ausschließen. Eine Patentanmeldung gemeinsam mit einer Anmeldung zum Gebrauchsmuster bieten Erfindern sogar größtmöglichen Schutz.

Das Geschmacksmustergesetz ist ein Gesetz, welches Muster und Modelle rechtlich schützt. Als Muster wird hierbei eine zwei- oder dreidimensionale Erscheinungsform eines ganzen Produktes oder eines Teils davon bezeichnet. Die Erscheinungsform ergibt sich aus Linien, Konturen, Farben, der Gestaltungsform, der Struktur der Oberfläche bzw. der Werkstoffe des Produkts. Geschützt werden können industrielle oder handwerkliche Produkte, deren Verpackung und Ausstattung, topographische Schriftzeichen sowie grafische Symbole. Für Computerprogramme, Filme, Musik und Literatur gilt das Urheberrecht. Somit sind sie vom Geschmacksmusterrecht ausgenommen. 2004 wurde das Geschmacksmusterrecht reformiert. Seitdem stehen auch die Designer von Produkten unter Schutz des Geschmacksmustergesetzes. Sie haben Anspruch auf Eintragung ihres Namens im Zusammenhang mit dem Muster.